2023.05.17 13:17
23. 05
한국연구재단에서 수행하는 차세대지능형반도체기술개발사업(원천기술개발사업)에 본 연구실이 총괄 책임으로써 제출한 과제가 최종 선정되었습니다.
국문과제명: 차세대 대면적 3차원 Monolithic 집적을 위한 저온 공정 기반 Si/Ge 채널 상부 응용 소자 제작 기술 및 회로/아키텍쳐 구현
영문과제명: Development of low-temperature process-based Si/Ge channel for the upper application device fabrication technology and implementation of circuit/architecture for the next-generation large-area 3-dimensional monolithic integration
연구기간: 2023. 4. 1 - 2025. 12. 31 (32개월)
총괄 책임자: 유현용