NOTICE

2014. 6.

 

한국산업기술평가원에서 수행하는 산업혁신기술사업에 본 연구실의 과제가 최종 선정되었습니다.

 

과제명: 10nm급 기술 노드를 위한 Ge nMOS/pMOS FinFET 기술 개발

연구기간: 2014. 6. 1 -  2019. 5. 31 (60개월)